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Graphene als Schutzschicht für Viellagenspiegel
01.01.2010 - 31.12.2011
Auftragsforschungsprojekt
In diesem von der Firma Intel gesponserten Forschungsprojekt geht es um die Untersuchung von Mehrschichtspiegeln für ¿extreme ultraviolet lithography¿ (EUV). Es soll festgestellt werden, ob Graphenschichten EUV Spiegel vor Verunreinigungen und Oxidation unter Bestrahlung schützen können. Mithilfe des chemical vapor deposition (CVD) Verfahrens sollen Graphenschichten auf Kupfer oder einem anderen geeigneten Material aufgewachsen werden. Diese Schichten werden dann auf andere Substrate übertragen und ihr chemisches Verhalten wird mit oberflächenphysikalischen Methoden untersucht. Begleitende Untersuchungen finden auf Einkristalloberflaechen im Ultrahochvakuum statt.
Personen
Projektleiter_in
Ulrike Diebold
(E134)
Projektmitarbeiter_innen
Daniel Hagleitner
(E134)
Bernhard Stöger
(E134)
Institut
E134 - Institut für Angewandte Physik
Auftrag/Kooperation
Intel Corporation, Hillsboro, Oregon, USA
Forschungsschwerpunkte
Non-metallic Materials: 20%
Special and Engineering Materials: 20%
Surfaces and Interfaces: 60%
Schlagwörter
Deutsch
Englisch
Oberflächenphysik
surface science
Lithographieverfahren
Lithography
Externe Partner_innen
Rutgers, The State Universtity of New Jersey
Publikationen
Publikationsliste