Graphene als Schutzschicht für Viellagenspiegel

01.01.2010 - 31.12.2011
Auftragsforschungsprojekt
In diesem von der Firma Intel gesponserten Forschungsprojekt geht es um die Untersuchung von Mehrschichtspiegeln für ¿extreme ultraviolet lithography¿ (EUV). Es soll festgestellt werden, ob Graphenschichten EUV Spiegel vor Verunreinigungen und Oxidation unter Bestrahlung schützen können. Mithilfe des chemical vapor deposition (CVD) Verfahrens sollen Graphenschichten auf Kupfer oder einem anderen geeigneten Material aufgewachsen werden. Diese Schichten werden dann auf andere Substrate übertragen und ihr chemisches Verhalten wird mit oberflächenphysikalischen Methoden untersucht. Begleitende Untersuchungen finden auf Einkristalloberflaechen im Ultrahochvakuum statt.

Personen

Projektleiter_in

Projektmitarbeiter_innen

Institut

Auftrag/Kooperation

  • Intel Corporation, Hillsboro, Oregon, USA

Forschungsschwerpunkte

  • Non-metallic Materials: 20%
  • Special and Engineering Materials: 20%
  • Surfaces and Interfaces: 60%

Schlagwörter

DeutschEnglisch
Oberflächenphysiksurface science
LithographieverfahrenLithography

Externe Partner_innen

  • Rutgers, The State Universtity of New Jersey

Publikationen