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Forschung
Organisation
Lithographieforschung und Nanotechnologie (Tech. abgeschlossen 2010)
01.05.1994 - 30.12.2010
Forschungsförderungsprojekt
Entwicklung neuer Resisttechnologien; DUV-Excimer-Laser Ablationsverfahren mit hochenergetischen Photonen; Dünnschichttechnlologie mittels Trioden-Kathodenzerstäubung; Nanostruckturierung mittels reaktivem Plasmaätzen (Bosch-Verfahren) Subvention an das Institut für Lithographieforschung, p.Adr. Inst. 366
Personen
Projektleiter_in
Günther Stangl
(E366)
Projektmitarbeiter_innen
Claudia Benedela
(E366)
Sabine Fuchs
(E366)
Institut
E366 - Institut für Sensor- und Aktuatorsysteme
Förderungmittel
BM f. Klimaschutz, Umwelt, Energie, Mobilität, Innovation u.Technologie (National)
BM für Verkehr, Innovation und Technologie (bm:vit)
Forschungsschwerpunkte
Special and Engineering Materials: 35%
Structure-Property Relationsship: 30%
Materials Characterization: 35%
Schlagwörter
Deutsch
Englisch
Nonostrukturierung
Nanostructuring
"Ätzen mit Licht" (Ablation)
"Etching by Photones" (Ablation)
reaktives Plasmaätzen
reactive Plasma-Etching
Mehrlagenfotolacktechnologie
bi- and trilevel Resisttechnology
Publikationen
Publikationsliste