Lithographieforschung und Nanotechnologie (Tech. abgeschlossen 2010)

01.05.1994 - 30.12.2010

Forschungsförderungsprojekt

Entwicklung neuer Resisttechnologien; DUV-Excimer-Laser Ablationsverfahren mit hochenergetischen Photonen; Dünnschichttechnlologie mittels Trioden-Kathodenzerstäubung; Nanostruckturierung mittels reaktivem Plasmaätzen (Bosch-Verfahren) Subvention an das Institut für Lithographieforschung, p.Adr. Inst. 366

Personen

Projektleiter_in

Günther Stangl (E366)

Projektmitarbeiter_innen

Claudia Benedela (E366)
Sabine Fuchs (E366)

Institut

E366 - Institut für Sensor- und Aktuatorsysteme

Förderungmittel

BM f. Klimaschutz, Umwelt, Energie, Mobilität, Innovation u.Technologie (National) BM für Verkehr, Innovation und Technologie (bm:vit)

Forschungsschwerpunkte

Special and Engineering Materials: 35%
Structure-Property Relationsship: 30%
Materials Characterization: 35%

Schlagwörter

Deutsch	Englisch
Nonostrukturierung	Nanostructuring
"Ätzen mit Licht" (Ablation)	"Etching by Photones" (Ablation)
reaktives Plasmaätzen	reactive Plasma-Etching
Mehrlagenfotolacktechnologie	bi- and trilevel Resisttechnology

Publikationen

Publikationsliste