Synchrotronstrahlungsinduzierte TXRF-Anwendungen

01.05.2005 - 31.10.2008
Forschungsförderungsprojekt
Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF) is eine spezielle Methode der energiedispersiven Röntgenfluoreszenzanalyse, die die analytische Leistungsfähigkeit mit Röntgenröhren in den Ultraspurenbereich ( 10-12g) ausdehnt. Unter Verwendung von Synchrotronstrahlung als anregende Strahlenquelle mit ihren inhärenten Eigenschaften,wie hoher Intensität, weitem Spektralbereich und natürlicher Kollimation kann die Nachweisempfindlichkeit auf 10-15 g ( fg) erhöht werden. Verwendet man einen hochauflösenden Kristallmonochromator anstelle von Multilayer Monochromatoren kann Absorptionsspektroskopie ( XANES, EXAFS) durchgeführt werden, was Speciation und Bestimmung der chemischen Umgebung eines Elements ermöglicht. Ziel des Projekts ist es, die Leistungsfähigkeit der neu entwickelten Spurenelementanalytischen Technik SR-TXRF zu zeigen und seine Anwendbarkeit auf verschiedene analytische Probleme. Am HASYLAB, DESY, Hamburg, Beamline L wurde vom ATI team eine SR-TXRF Vakuummeßkammer installiert, die für Spurenelementanalyse, XANES, Tiefenprofilbestimmung und Waferoberflächenanalyse verwendet werden kann ( Zusammenarbeit mit Dr. Falkenberg vom HASYLAB). Ein Strahlzeitantrag für 3 Jahre wurde gestellt und von dem Peer Review System genehmigt, sodaß nun Strahlzeit für 3 jahre im Ausmaß von 2 Wochen pro Jahr zugsichert wurde. 6 Punkte sollen untersucht werden: ¿ Optimierung der Geometrie für Absorptionsspektroskopie in TXRF Geometrie (coop.Dr.Pepponi) ¿ Analyse von impaktorgesammelten Aerosolen und XANES zur Bestimmung des Oxydationszustandes (coop. Prof. Broekaert) ¿ Bestimmung des Oxydationszustandes von As in Pflanzenflüssigkeit ( coop. Prof. Zaray) ¿ Tiefenprofilbestimmung und Bestimmung der absoluten Implantationsdosis von Implantaten in Si wafern ( Ultra shallow junctions) ( coop. Dr. Pepponi) ¿ XANES an Wafer oberflächen zur Bestimmung des Oxydationszustandes von Verunreinigungen, wie Fe ( coop. Mrs. Zaitz) Die Anwendung der SR-TXRF auf verschiedene Probleme gibt die Möglichkeit, die Methode zu charakterisieren und zu validitieren für Anwendungen, wie Tiefenprofilbestimmung, Absorptionsspektroskopie und Kombination mit Spurenelementanalytik, um die Leistungsfähigkeit der Methode für verschiedene Anwender aus Forschung und Industrie zu zeigen. .

Personen

Projektleiter_in

Subprojektleiter_in

Projektmitarbeiter_innen

Institut

Förderungmittel

  • FWF - Österr. Wissenschaftsfonds (National) Fonds zur Förderung der wissenschaftlichen Forschung (FWF)

Forschungsschwerpunkte

  • Materials Characterization: 100%

Schlagwörter

DeutschEnglisch
TotalreflexionsRöntgenfluoreszenzanalyseTotal Reflection X-ray Fluorescence Analysis
SynchrotronstrahlungSynchrotron Radiation
ultraspurenanalytikUltra trace element analysis
Energiedispersive RöntgenfluoreszenzanalyseEnergy dispersive X-ray Fluorescence Analysis
WaferoberflächenkontaminationWafer surface contamination

Externe Partner_innen

  • HASYLAB, Deutsches Elektronensynchtrotron ( DESY), Hamburg
  • Instituto Trentino di Cultura, Centro per al ricerca scietifica e tecnologica
  • Universität Hamburg, Institut für Anorganische und Analytische Chemie
  • IBM Cooperation
  • Eötvös Lorand University, Budapest, Inst. of Inorganic and analytical chemistry

Publikationen