Charakterisierung von Nanometer-Schichten durch Röntgenfluoreszenzanalyse unter streifendem Einfall kombiniert mit Röntgenreflektometrie

01.01.2013 - 31.12.2013
Forschungsförderungsprojekt

 

Röntgenfluoreszenzanalyse unter streifendem Einfall (Grazing incidence XRF – GIXRF) ist ein relativ neues Verfahren mit hoher Empfindlichkeit im oberflächennahen Bereich, das noch dazu zerstörungsfrei abläuft. Geringste Verunreinigungen können relativ leicht und schnell qualitativ bestimmt werden, die Quantifizierung erfordert allerdings Vorkenntnisse über die Schichtstruktur der Probe und eine Berechnung von theoretischen Kurven anhand dieses Modells. Während der Messung wird der Einfallswinkel der anregenden Röntgenstrahlung schrittweise verändert und die erzeugte Röntgenfluoreszenz bei jedem eingestellten¿Winkel¿ energiedispersiv¿ und¿ somit¿ elementspezifisch gemessen. Die gemessenen Kurven werden¿ dann¿ wiederum elementweise mit berechneten Kurven verglichen und die¿ Parameter¿ wie¿ Schichtdicke¿ und¿ –zusammensetzung¿ für die Berechnung variiert,¿ d.h.¿ es¿ erfolgt¿ ein¿ „anfitten“ an die Messkurve. Somit ko¿nnen¿ durch¿ diese¿ Methode¿ die¿ Konzentrationsprofile¿ und¿Dicke¿von¿oberfla¿chennahen¿Schichten¿bestimmt¿werden

¿Die Fitergebnisse sind nicht eindeutig, daher ¿wird¿ zusa¿tzliche¿ Information¿ beno¿tigt.¿ Hier ¿bietet¿ sich¿ hier¿ als¿ erga¿nzende ¿Methode ¿die ¿Ro¿ntgenreflektometrie¿(XRR)¿ an,¿da¿sie¿nur¿geringe¿Modifikationen¿ am¿Messaufbau¿beno¿tigt,¿und¿die¿Intensita¿t¿der¿reflektierten¿Strahlung¿leicht¿aus¿der¿GIXRF¿ Berechnung¿ermitteln¿werden¿kann.

Personen

Projektleiter_in

Subprojektleiter_in

Institut

Förderungmittel

  • Hochschuljubiläumsfonds der Stadt Wien (National) Hochschuljubiläumsfonds der Stadt Wien Ausschreibungskennung HJST

Forschungsschwerpunkte

  • Surfaces and Interfaces: 100%

Schlagwörter

DeutschEnglisch
nanometerschichtennanometer layers

Publikationen