362.149 Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Diese Lehrveranstaltung ist in allen zugeordneten Curricula Teil der STEOP.
Diese Lehrveranstaltung ist in mindestens einem zugeordneten Curriculum Teil der STEOP.

2019W, VU, 2.0h, 3.0EC, wird geblockt abgehalten

Merkmale

  • Semesterwochenstunden: 2.0
  • ECTS: 3.0
  • Typ: VU Vorlesung mit Übung

Lernergebnisse

Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage...

... grundlegende Prinzipien der Chemie zu erklären

... die chemischen Prozesse für Ätzen, Abscheidung, Reinigung in der Prozesstechnologie anzuwenden

... an Nasswerkbänke im Reinraum mit Säuren, Laugen und Lösungsmitteln zu arbeiten

 

Inhalt der Lehrveranstaltung

Chemische Konzepte (pH, Elektrochemie, Reaktionsmechanismen,...u.v.m.),Thermodynamik, Kinetik, Herstellprozesse (Lithografie, RIE, CVD,...), welche auf chemischen Prozessen beruhen.  Sicherer Umgang mit Chemikalien (Säuren, Lösungsmittel, Gase

Methoden

Vortrag unterstützt mit ppt-Folien sowie Tafelzeichnungen

Anwendung der chemischen Prinzipien auf Fragestellungen des Alltags

Anwendung der chemischen Prinzipien auf Fragestellungen der Halbleitertechnologie

Gemeinsames Erarbeiten von chemischen Formeln und Reaktionsgleichungen

Gemeinsames Erarbeiten von allgemein chemischen und physikalisch-chemischen Berechnungen

Prüfungsmodus

Mündlich

Weitere Informationen

Die Vorlesungsübung „Prozesschemie“ wird im WS2019/20 als BLOCKVORLESUNG abgehalten:

Mo 01.10 - voraussichtlich Fr. 18.10.2019 täglich 15-18h
(entfällt an einigen ausgewählten Tagen des obigen Zeitraums gemä´vorheriger Bekanntgabe.)

Bitte um LVA-Anmeldung im TISS ***

Location:  NanoCenter - Building CH
                 Gusshausstrasse 25a
                 Seminar room 2nd floor

Bitte Taschenrechner mitnehmen!

Vortragende

Institut

LVA Termine

TagZeitDatumOrtBeschreibung
15:00 - 18:0001.10.2019 - 25.10.2019Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik - Einzeltermine
TagDatumZeitOrtBeschreibung
Di.01.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.02.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.03.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.04.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mo.07.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Di.08.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.09.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.10.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.11.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mo.14.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Di.15.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.16.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.17.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.18.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mo.21.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Di.22.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.23.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.24.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.25.10.201915:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
LVA wird geblockt abgehalten

Leistungsnachweis

Mitarbeit beim interaktiven Unterricht, Vorrechnen von Beispielen an der Tafel, Stundenwiederholungen

Abschliessend mündliches Prüfungsgespräch mit bis zu 3 Rechenbeispielen

LVA-Anmeldung

Von Bis Abmeldung bis
31.08.2019 09:00 11.10.2019 14:00 01.11.2019 00:00

Anmeldemodalitäten:

Bitte im TISS anmelden zur besseren Planung und Administrierbarkeit.

Curricula

Literatur

Es wird kein Skriptum zur Lehrveranstaltung angeboten.

Vorkenntnisse

Kenntnisse in Lithography, CVD, RIE

Vorausgehende Lehrveranstaltungen

Begleitende Lehrveranstaltungen

Vertiefende Lehrveranstaltungen

Sprache

bei Bedarf in Englisch