Graphene als Schutzschicht für Viellagenspiegel

01.01.2010 - 31.12.2011
Assigned research project
In diesem von der Firma Intel gesponserten Forschungsprojekt geht es um die Untersuchung von Mehrschichtspiegeln für ¿extreme ultraviolet lithography¿ (EUV). Es soll festgestellt werden, ob Graphenschichten EUV Spiegel vor Verunreinigungen und Oxidation unter Bestrahlung schützen können. Mithilfe des chemical vapor deposition (CVD) Verfahrens sollen Graphenschichten auf Kupfer oder einem anderen geeigneten Material aufgewachsen werden. Diese Schichten werden dann auf andere Substrate übertragen und ihr chemisches Verhalten wird mit oberflächenphysikalischen Methoden untersucht. Begleitende Untersuchungen finden auf Einkristalloberflaechen im Ultrahochvakuum statt.

People

Project leader

Project personnel

Institute

Auftrag/Kooperation

  • Intel Corporation, Hillsboro, Oregon, USA

Research focus

  • Non-metallic Materials: 20%
  • Special and Engineering Materials: 20%
  • Surfaces and Interfaces: 60%

Keywords

GermanEnglish
Oberflächenphysiksurface science
LithographieverfahrenLithography

External partner

  • Rutgers, The State Universtity of New Jersey

Publications