Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage, technologische Lösungen für unterschiedliche Anforderungen für verstärkte und unverstärkte Ultrakurzpuls-Lasersysteme selbständig zu identifizieren und begründen, Eckparameter von Laser- und parametrischen Quellen hochzurechnen, und unterschieliche Ausgangsparameter von gepulsten Quellen zu messen.
Grundlagen optischer und elektronischer Prozesse und Methoden (breitbandige Laser- und optische parametrische Verstärkung, Komprimierung der Laserpulse, optische Frequenz-Wandlung, Grenz-Eigenschaften optischer Materialien, Ultrakurzpuls-Messmethoden, usw.)
Konventionelle Frontalvorlesung mit praktischen Vorführungen.
Mündliche Prüfung, zwei themenübergreifende Fragen mit einstündiger Vorbereitungszeit (alle Ressoursen erlaubt).
