362.149 Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Diese Lehrveranstaltung ist in allen zugeordneten Curricula Teil der STEOP.
Diese Lehrveranstaltung ist in mindestens einem zugeordneten Curriculum Teil der STEOP.

2018W, VU, 2.0h, 3.0EC, wird geblockt abgehalten

Merkmale

  • Semesterwochenstunden: 2.0
  • ECTS: 3.0
  • Typ: VU Vorlesung mit Übung

Ziele der Lehrveranstaltung

Ziel der LVA ist es, dem Studenten ein Verständnis für den Ablauf chemischer Prozesse der Mikro- und Nanotechnologie zu vermitteln.

1) Wiederholung von von chemischen Grundkenntnissen
2) Chemische Vorgänge bei Lithografie, Abscheide- und Ätzprozessen
3) Moleküleigenschaften und Löslichkeit anhand von Beispielen aus der Prozesstechnologie
4) Praktische Tips zum sicheren Umgang mit Chemikalien

Es werden grundlegende Kenntnisse der Chemie (Verbindungsklassen, Stöchiometrische Zusammensetzung, Säuren/Basen, RedOx-Reaktionen, Thermodynamik, Reaktionskinetik, Funktionalität organischer Gruppen, Nomenklatur organischer Verbindungen) vermittelt und anhand von Beispielen aus der Mikrostrukturierung (Ätzen, Lithographie, Reinigung mit Lösungsmitteln, Dauer von Reaktionen, Mischungsverhältnisse von 2 Reaktionspartnern) in Übungsbeispielen angewandt.

Inhalt der Lehrveranstaltung

Chemische Konzepte (pH, Elektrochemie, Reaktionsmechanismen,...u.v.m.),Thermodynamik, Kinetik, Herstellprozesse (Lithografie, RIE, CVD,...), welche auf chemischen Prozessen beruhen.  Sicherer Umgang mit Chemikalien (Säuren, Lösungsmittel, Gase

Weitere Informationen

Die Vorlesungsübung „Prozesschemie“ wird im WS2018/19 als BLOCKVORLESUNG abgehalten:

Mo 01.10 - Fr. 12.10.2018 täglich 15-18h

Bitte um LVA-Anmeldung im TISS ***

Location:  NanoCenter - Building CH
                 Gusshausstrasse 25a
                 Seminar room 2nd floor

Bitte Taschenrechner mitnehmen!

Vortragende

Institut

LVA Termine

TagZeitDatumOrtBeschreibung
15:00 - 18:0001.10.2018 - 19.10.2018Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik - Einzeltermine
TagDatumZeitOrtBeschreibung
Mo.01.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Di.02.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.03.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.04.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.05.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mo.08.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Di.09.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.10.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.11.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.12.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mo.15.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Di.16.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Mi.17.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Do.18.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
Fr.19.10.201815:00 - 18:00Besprechungsraum 362 - 2 362.149: Prozesschemie für Mikro- und Nanoelektronik
LVA wird geblockt abgehalten

Leistungsnachweis

Mündliche Prüfung - Anmeldung für vorgegebene Termine via TISS.

Zusatztermine jederzeit auf Anfrage möglich - Terminvereinbarungen über silvia.greil@tuwien.ac.at

LVA-Anmeldung

Von Bis Abmeldung bis
01.09.2018 09:00 12.10.2018 14:00 02.11.2018 00:00

Anmeldemodalitäten:

Bitte im TISS anmelden zur besseren Planung und Administrierbarkeit.

Curricula

Literatur

Es wird kein Skriptum zur Lehrveranstaltung angeboten.

Vorkenntnisse

Kenntnisse in Lithography, CVD, RIE

Vorausgehende Lehrveranstaltungen

Begleitende Lehrveranstaltungen

Vertiefende Lehrveranstaltungen

Sprache

bei Bedarf in Englisch