Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage modernste Stukturierungsverfahren für die Herstellung ultradünner Schichten, Nanodrähten und Quantenpunkten zu analysieren und die wichtigsten analystischen Verfahren zur Charakterisierung von Nanostrukturen und ihrer physikalischen Eigenschaften und Funktikonalitäten zu kategorisieren.
Lehrinhalt dieser Vorlesung ist die Kenntnis der Verfahren zur Herstellung und Charakterisierung nanoskaliger niedrigdimensionaler Systeme. Diese können bekannte physikalische Phänomene ausnutzen, die durch die Nanostrukturierung verbessert werden, oder ganz neue Prinzipien anwenden. Nach einer Vorstellung der grundlegenden Eigenschaften von Nanostrukturen und Skalierungseffekten folgt eine Beschreibung häufig verwendeter Techniken für die Dünnschichtabscheidung, inklusive thermischen Aufdampfens, Sputterns und der chemische Gasphasenabscheidung. Für die laterale Strukturierung werden modernste optische Verfahren, die Elektronenstrahllithographie und Nanoimprinttechnologien beschrieben. Prinzipieller Aufbau und die Besonderheiten der Prozesse und Anlagen werden diskutiert. Abschließend werden vor allem chemischen Herstellungsmethoden und Prinzipien der Selbst-Organisation erklärt.
