Einführung in die Physik verschiedener Abscheidetechniken zur Herstellung einkristalliner Filme: Erklärung und Vergleich industriell angewandter Herstellungstechniken und Charakterisierungstechniken zur Erzeugung von epitaktischen Schichten (Dielektrika, Halbleiter, Metalle/Supraleiter): Beschreibung verschiedener Wachstumsverfahren (MBE, MO-MBE, ALE, CVD, MO-CVD, Laser-CVD, PA-CVD, LPE, etc.) und der dazu notwendigen Ausstattung (Vakuumtechnik, Materialquellen, Substratvorbehandlung etc.): Dotierungsmethoden, "in situ" und "ex situ" Analysemethoden (Zusammensetzung, Reinheit, Strukturanalyse, Ladungsträger, optische und elektrische Eigenschaften): Herstellungsmethoden von eindimensionalen Strukturen durch verschiedene Wachstumstechniken (Quantendrähte durch Überwachsen etc.): Diskussion möglicher Anwendung neuester Materialsysteme.
Nicht erforderlich