Einarbeitung in ausgewählte Prozesse der Halbleitertechnologie und in die Messtechniken zur Charakterisierung von Halbleiterstrukturen bis in den Nanometerbereich.
Zur Durchführung:
Zunächst findet ein 6-wöchiger Vorlesungsblock statt, in dem Ihnen die notwendigen Grundlagen vermittelt werden, anschließend gibt es einen Test. Danach wird eine ganztägige Laborübung in 3er-Gruppen durchgeführt. Es stehen derzeit 3 verschiedene Experimente zur Verfügung. Sie können Ihr Lieblingsexperiment frei wählen , aber es gilt das Motto, "wer zuerst kommt, mahlt zuerst".
Prozesse in der Halbleitertechnologie (Lithographie, Strukturierung, Metallisierung etc.)
Charakterisierungsmessungen an Halbleiterstrukturen und Bauelementen .
Ortsaufgelöste Messtechnik in Nanometerbereich (AFM, STM)
Elektrische Charakterisierung elektronischer und optoelektronischer Bauelemente.
Es gibt einen Test über den Vorlesungsblock. Die eigentliche Laborübung kann nur nach bestandenem Test absolviert werden !
Ein Laborprotokoll muss erstellt werden.
Die Anmeldung erfolgt über Gruppen-Anmeldung.
Die Vorlesungsunterlagen (Skriptum, Handouts der Folien) weden kurzfristig zur Verfügung gestellt.
Der positive Abschluss der Vorlesung "Halbleiterphysik" ist dringend empfohlen, denn ohne diese Vorkenntnisse vestehen Sie den Vorlesungsblock in dieser LVA nicht.
.Der positive Abschluss der Laborübung "Technische Elektronik" ist ebenfalls dringend empfohlen, denn die Arbeiten im Labor erfordern Kenntnisse in "LABVIEW"