Arbeiten im Reinraum; Erlernen der Strukturierungstechniken von Halbleitern, Metallisierung, CVD-Abscheideverfahren, Sputtertechniken; elektrische , optische Charakterisierung.

Bei diesem Praktikum werden Moderne Halbleiter- Bauelemente ausgehend vom Halbleiter-Substrat hergestellt und anschließend bezüglicher ihrer elektronischen Eigenschaften charakterisiert. Die Studenten werden in den Forschungsbetrieb integriert und mit einem Teil der Strukturierungs bzw. Charakterisierungs-Techniken betraut. Dadurch gewinnt man Einblick in die neuesten Technologien und die dabei auftretenden Probleme. Da sich der zeitliche Ablauf bei der Prozessierung von Bauelementen nach der Verfügbarkeit der vorhandenen Geräte richtet, kann dieses Praktikum nur als Blockveranstaltung mit ganztägiger Durchführung abgehalten werden. Praktische Durchführung der Probenpräparation im Reinraum des MISZ. Dabei werden sämtliche Prozeßschritte der modernen Halbleitertechnologie durchgeführt und Bauelemente hergestellt, die anschließend meßtechnisch charakterisiert werden.