164.006 Chemical and Physical Vapour Deposition in der Technologie
Diese Lehrveranstaltung ist in allen zugeordneten Curricula Teil der STEOP.
Diese Lehrveranstaltung ist in mindestens einem zugeordneten Curriculum Teil der STEOP.

2019S, VO, 2.0h, 2.0EC

Merkmale

  • Semesterwochenstunden: 2.0
  • ECTS: 2.0
  • Typ: VO Vorlesung

Ziele der Lehrveranstaltung

Aufzeigen der Möglichkeiten für Gas-Fest Reaktionen in der Technologie (Herstellung von Pulvern und Schichten). Anwendungsmöglichkeiten für Beschichtungen sollen den Möglichkeiten der einzelnen Herstellungsverfahren angepasst werden.

Heuer Sonderkapitel - Spritzschichten - gelesen von Lutz-Michael Berger (IKTS)

Inhalt der Lehrveranstaltung

Gas-Fest Reaktionen in der Technologie: Herstellung von Pulvers, Einkristallen, Beschichtungen. Möglichkeiten für chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Technologie der PVD Verfahren (Physical Vapour Deposition). Erzeugung von Gasentladungen, Sputtern, .... Technologischer Einsatze und Anwendungsbeispiele.

Vortragende Personen

Institut

LVA Termine

TagZeitDatumOrtBeschreibung
09:00 - 16:0020.05.2019 - 22.05.2019 Besprechungszimmer 164 1. Stock - BB 01Vorlesung
Chemical and Physical Vapour Deposition in der Technologie - Einzeltermine
TagDatumZeitOrtBeschreibung
Mo.20.05.201909:00 - 16:00 Besprechungszimmer 164 1. Stock - BB 01Vorlesung
Di.21.05.201909:00 - 16:00 Besprechungszimmer 164 1. Stock - BB 01Vorlesung
Mi.22.05.201909:00 - 16:00 Besprechungszimmer 164 1. Stock - BB 01Vorlesung

Leistungsnachweis

mündlich

LVA-Anmeldung

Von Bis Abmeldung bis
18.02.2019 00:00 31.05.2019 23:00

Anmeldemodalitäten

die VO wird im Block abgehalten
Zeit und Ort: nach persönlicher Vereinbarung mit dem Vortragenden

Interessenten bitte anmelden, um die Teilnehmerzahl abschätzen zu können.

Curricula

StudienkennzahlVerbindlichkeitSemesterAnm.Bed.Info
730 Verfahrenstechnik Gebundenes Wahlfach

Literatur

Es wird kein Skriptum zur Lehrveranstaltung angeboten.

Sprache

Deutsch